上海丹捷格智能科技有限公司申请的一项关于低压化学气相沉积镀膜工艺的参数优化方法及其相关装置的专利，涵盖了专利的具体内容、公司情况等信息。
在2025年4月5日，金融界传出一则引人关注的消息。来自国家知识产权局的信息表明，上海丹捷格智能科技有限公司提出了一项具有重要意义的专利申请。该专利名为“低压化学气相沉积镀膜工艺的参数优化方法及其相关装置”，其公开号为CN 119753648 A，申请日期定格在2024年12月。
从专利摘要中我们可以了解到，此项申请聚焦于一种低压化学气相沉积镀膜工艺的参数优化方法以及与之相关的装置。具体而言，它包含以下几个关键步骤：首先是构建膜厚预测模型，这个模型就像是一个精准的“导航仪”，用于清晰指示控制单元的第一工艺参数和控制单元的膜厚预测值之间的紧密关系。接着，将构建好的膜厚预测模型代入目标函数模型，从而得到控制单元的工艺参数优化模型。最后，在一定的约束条件下对目标函数模型进行精心优化，当满足约束条件且目标函数模型输出处于第一阈值范围时，就能得出控制单元的第一工艺参数的最优值。该方案的优势十分显著，它能够对LPVCD镀膜设备的工艺参数进行实时调整，就如同给设备安装了一个智能“大脑”，可以根据实际情况灵活应变。通过这样的调整，能够有效减少工艺过程中特种气体的消耗量，降低生产成本，同时还能够显著提高产能，为企业创造更多的经济效益。
再让我们把目光投向上海丹捷格智能科技有限公司本身。根据天眼查资料显示，该公司成立于2024年，坐落在繁华的上海市。它是一家主要从事科技推广和应用服务业的企业，企业注册资本为100万人民币。尽管成立时间不长，但从其申请的这项专利来看，该公司在技术研发方面展现出了强大的实力和创新精神，未来发展潜力巨大。
本文围绕上海丹捷格智能科技有限公司申请的“低压化学气相沉积镀膜工艺的参数优化方法及其相关装置”专利展开，介绍了专利内容、优势以及公司的基本情况。该专利有望通过实时调整工艺参数，减少特种气体消耗并提高产能，体现了该公司在科技研发上的创新能力和发展潜力。
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